山东硅片除气装置生产厂家来电垂询 科创真空

真空除气储存柜设备用途 

本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。

机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。

真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。

真空除气储存柜主要参数

1、炉型结构：卧式与立式，单室与双室或多室，炉体炉门采用双层水冷，前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。

2、极限温度：1500℃

3、工作区尺寸：按照用户需求定制

4、设备总功率：20-100 KW（含加热系统、真空机组、制冷机）

5、电源频率：50Hz

6、电源电压：三相380 V（±10V）

真空除气储存柜的使用

1、真空除气装置，真空除气炉报价，在抽真空之前放置好产品、关闭箱室门，然后启动抽真空，加热系统持续不间断渐热。真空除气炉公司，达到设定真空度时，保持加热并持续保持真空度，设定工艺完成后，自动停止抽真空，加热系统关闭。当进入维持真空模式时，低于下限的时候自动启动；（启动为抽真空、停止为停止真空泵工作、解压为需要把真空破空）

2、真空度设定操作见操作说明书，用不到的功能禁止调整。

3、试验时间完成后，自动破空，破空完成后，方可开门取出产品。

真空除气炉、真空存储柜的保养维护

保修期满后，供方将以优惠价格向用户提供备品备件，并对设备提供终身有偿技术和维修服务；

设备安装调试时，对用户进行技术培训，培训内容包括设备的工作原理、操作、安全、维修、质控等。

设备日常维护包括真空泵的油位检查、电机有无异响、电压电流是否正常、水冷机制冷与流量是否存在异常。真空室内保持清洁，不得有灰尘、异物或者溅入液体以及腐蚀性物质。应当定期对箱室清洁，可以进行酒精擦拭、氮气吹扫等。