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发布时间:2022-09-05 09:29:00 作者:科创真空
氦气检漏的主要参数及优势
1、关键零部件集优采购,保证了系统的稳定性和可靠性;
2、真空箱内氦气本底抑零,保证了检漏的准确性、;
3、特有的清氦系统,快速有效地清除超标的氦本底,保证检测的稳定性和准确性;
4、实时监测氦气压力和浓度,保证了工件检测的精度;
5、可对使用过程中产生的浓度不合格氦气进行提纯,极大降低氦气损耗(功能可选);
6、可同时检测多工件,并能按照需求自动判断出具体的有漏工件;
7、定制的的密封接头,可靠稳定,减少误判。
8、触摸屏实时显示监测数据和运行参数,监控一目了然。
9、电气控制系统的连锁保护及声光报警功能,确保了系统的操作安全及可靠运行。
今天和大家分享的是氦气检漏的主要参数及优势,希望对您有所帮助!
氦气检漏的基本功能(部分功能可选配)
1、对被检工件充注高压氮气或压缩空气进行耐压强度和大漏气密性检验;
2、对被检工件抽真空;
3、对被检工件充注氦气;
4、真空箱法氦质谱检测,自动判断工件漏率合格与不合格;
5、回收并循环使用氦气;
6、如果氦气浪费严重,可以将使用过程中浓度不合格的氦气进行提纯
7、PLC控制,触摸屏操作,自动检测。
科创真空提供氦气检漏,如果您想了解更多产品信息您可拨打图片上的电话进行咨询!
半导体设备及材料需要检漏原因
1、半导体设备要求高真空,比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间,耗时耗力;
2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染,对半导体的特性改变并破坏其性能,因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏;
3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体,经过氦质谱检漏后,在低漏率真空条件下,这些气体不易外泄,设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物,保障工作人员安全和大气环境。
4、芯片封装,一旦出现泄漏,芯片就会失效。
氦检漏设备
密封器件的氦质谱细检漏技术细分为压氦法(即背压法) 和预充氦法两种。D A Howl 等首先给出了压氦法测量漏率Re 与等效标准漏率L 的关系,并指出该关系对应的气流状态为分子流,文献指出将压氦法测量漏率与等效标准漏率关系式中个括号删掉,就得到预充氦法的相应关系式。无论是压氦法还是预充氦法,在公式推导中都假定候检期间环境大气中不存在氦分压。然而,实际上地球干洁大气中含有少量氦气;自然光或40W日光灯下视线与涂层45°角观察表面平整、光亮、流平性好。压氦时通常会产生检漏用氦气对环境大气的污染,使环境氦分压超过地球干洁大气中的氦分压。因此,推导和分析环境大气中氦分压对压氦法和预充氦法的影响是十分必要的。
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