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用氦气作为氦质谱检漏气体的原因

1.氦是惰性气体，不与被检件器壁起化学反应，不会污染被检件.使用安全。

2、在氮两侧的是氢(质荷比为2)和双电荷原子碳(质荷比为6)，质荷比都与氮相差较大。真空箱式氦检漏设备【验收标准】由于真空箱式氦检漏系统是比较***的设备，所以需要用户进行验收，以免后期使用过程中产生问题，难以解决。这样，它们在分析器中的偏转半径相差也大,容易分开，定标找氨峰时，不易受其他离子的干扰，因此就降低易于加工。同时，分析器出口电极及离子源加速极的隙缝也可以加大,使更多的氦离子通过，提高了仪器灵敏度。

半导体设备及材料需要检漏原因

1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；

3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。

氦质谱检漏仪

充氦法

的整体检漏就是可以用这种方法，将放入大型环模室中，利用环模设备的真空系统将环模抽成真空，先用辅助泵进行粗抽和预抽，在检漏时先通过机械泵将及充气管道抽成真空后，将氦气充入中，压力保持和工作的压力一致，开启氦质谱检漏仪用标准漏孔校准仪器，就可以直接测量的漏率了。三、设备腔体部分选用SS304板10mm厚，腔体法兰选用SS304板成活30mm。

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氦检漏设备

真空法氦质谱检漏：

采用真空法检漏时，需要利用辅助真空泵或检漏仪对被检产品内部密封室抽真空，采用氦罩或喷吹的方法在被检产品外表面施氦气，当被检产品表面有漏孔时，氦气就会通过漏孔进入被检产品内部，再进入氦质谱检漏仪，从而实现被检产品泄漏量测量。氦气检漏的主要参数及优势1、关键零部件***集优采购，保证了系统的稳定性和可靠性。按照施漏气体方法的不同，又可以将真空法分为真空喷吹法和真空氦罩法。