河北硅片除气装置价格免费咨询「科创真空」

真空除气储存柜的放置

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。使用前注意电压是否正确，仅适用机台上所标示之电压，避免电过量，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，以防漏电；

请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到面部。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气炉、真空存储柜的保养维护

保修期满后，供方将以优惠价格向用户提供备品备件，并对设备提供终身有偿技术和维修服务；

设备安装调试时，对用户进行技术培训，培训内容包括设备的工作原理、操作、安全、维修、质控等。

设备日常维护包括真空泵的油位检查、电机有无异响、电压电流是否正常、水冷机制冷与流量是否存在异常。真空室内保持清洁，不得有灰尘、异物或者溅入液体以及腐蚀性物质。应当定期对箱室清洁，可以进行酒精擦拭、氮气吹扫等。