企业等级: | 普通会员 |
经营模式: | 生产加工 |
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发布时间:2022-07-21 23:38:00 作者:科创真空
真空除气炉的构成介绍
真空测量装置:采用复合真空计,使测量更加准确。
加热烘烤组件:采用铠装管加热,包括工件托盘及支架,箱室顶部中心测温。功率:9.5千瓦,控制精度:±1℃。
管道阀门:真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成,为获得较好的真空提供了必要的物质基础。
真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。
前级泵:选用涡旋干式真空泵,无油运行,可为真空箱室提供洁净的真空环境。
分子泵:选用脂润滑复合分子泵,可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。
真空除气储存柜主要参数
1、炉型结构:卧式与立式,单室与双室或多室,炉体炉门采用双层水冷,前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。
2、极限温度:1500℃
3、工作区尺寸:按照用户需求定制
4、设备总功率:20-100 KW(含加热系统、真空机组、制冷机)
5、电源频率:50Hz
6、电源电压:三相380 V(±10V)
高真空除气炉的特点
科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可高达10-7Pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点:
① 极限真空度高;
② 控温精度高;
③ 更高的升温速率;
④ 更加智能化;
⑤ 可真空去除产品空洞与气泡;
⑥ 降低产品的氧化性;
⑦ 提高工艺室的洁净度。
真空除气炉、真空存储柜的使用环境
使用环境
① 设备占地面积约:长2米,宽1.6米(约3.2平米)高1.95米;
② 电源:380 V±38 V,50 Hz±0.5 Hz,约15KW(外部电源用户自备);
③ 工件要求:无油污,无腐蚀性物质;
④ 环境温度: 5 ℃ ~ 35 ℃;
⑤ 相对湿度: 20%-85%;
⑥ 设备应安装在通风良好的厂房内。
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