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发布时间：2022-05-04 09:37:00 作者：科创真空
硅片除气装置原理
工作中旋转的转子将吹入铝水中的惰性气体（氮气）破碎成大量的弥散气泡，并使其分散在铝液中；气泡在熔液中靠气体分压差和表面吸附原理，吸收熔液中的氢，吸附氧化夹渣，并随气泡上升而被带出熔液表面，使熔液得以净化；由于气泡细小弥散，与旋转熔液均匀混合，并随之转动呈螺旋形缓慢上浮，与熔液接触时不会形成连续直线上升产生的气流，从而显著提高了净化效果。 气和氮气都可以作为对铝液进行除气。
真空除气储存柜的放置
本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是25℃~35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。使用前注意电压是否正确，仅适用机台上所标示之电压，避免电过量，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，以防漏电；
请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到面部；
真空除气储存柜的保养
机台在工作时，禁止放置酒精、接着剂等具有挥发性之物品之酸性物品在机台内，不要放入危险产品及易挥发有毒气体的产品。请勿在机台附近使用可燃性物品 ，防止意外发生；
本机器在做完试验后或工作后，一定要把试验室内的余物清除干净，以免下次试验及用机时给其它产品带来不利影响。要长期保持内外箱的洁净及干燥，同时断开主电源；
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