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湖北真空箱氦检漏设备定做承诺守信 科创真空

发布时间:2022-04-14 08:11:00        作者:科创真空

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视频作者:北京科创鼎新真空技术有限公司






空调检漏设备

真空系统检漏中不论是采用哪种气泡检漏法,应用中需要注意:

1、示漏气体的种类与压力会影响检测灵敏度。

2、充入气体的压力还要考虑被检件的机械强度。

3、被检件检测前需要进行充分的清洁,同时要在充好气后再放入液体中,防止堵塞漏孔。

4、区分虚漏与真漏,被检件放入液体中,其表面的吸附气体可能形成气泡,需要与漏孔形成的气泡加以区分,须将这些气泡抹掉后再进行观察。

5、观察时需要保证光线充足,液体清澈透明(皂膜法时尤其要注意皂液的稀稠度,过稀易流动滴落导致漏检,过稠易堵塞透明度差或形成气泡造成误检),观察背景要暗;同时被检件要稳,距离水面要近,并保证水面平静。

真空系统检漏过程中发现漏孔要及时标记,并复查确认进行焊补,如果采用氢气作为示漏气体,要特别注意安全。

以上就是关于氦质谱检漏设备的相关内容介绍,如有需求,欢迎拨打图片上的热线电话!









用氦气作为氦质谱检漏气体的原因

1.氦是惰性气体,不与被检件器壁起化学反应,不会污染被检件.使用安全。

2、在氮两侧的是氢(质荷比为2)和双电荷原子碳(质荷比为6),质荷比都与氮相差较大。这样,它们在分析器中的偏转半径相差也大,容易分开,定标找氨峰时,不易受其他离子的干扰,因此就降低易于加工。同时,分析器出口电极及离子源加速极的隙缝也可以加大,使更多的氦离子通过,提高了仪器灵敏度。汽车部件检漏设备-氦气检漏提升电池一致性日前,有媒体报道,美宾夕法尼亚州立大学王朝阳团队研发的10分钟极速充电技术,***了锂电池快速充电和电池寿命难以兼得的关键问题。






半导体设备及材料需要检漏原因

1、半导体设备要求高真空,比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间,耗时耗力;

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染,对半导体的特性改变并破坏其性能,因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏;

3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体,经过氦质谱检漏后,在低漏率真空条件下,这些气体不易外泄,设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物,保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装,一旦出现泄漏,芯片就会失效。



氦检漏设备

氦罩法

在这种方法中,用塑料薄膜包裹被测容器,首先除去罩子中的空气,然后充入氦气或氦气混合气体,检漏仪与被测容器的内部连接,当检漏仪显示泄漏率时,指示泄漏。这个泄漏率称为总泄漏率。总泄漏率是所有泄漏率的总和。如果总泄漏率不超过标准值,则每个泄漏率不超过标准值;0Mpa)放人水中是否有气泡从工件中冒出来,冒泡的位置就是泄露的位置,而根据冒泡的速率,泡的速率,泡的大小,大约可估漏率。如果总泄漏率超过标准值,检查每个点的泄漏率是否超过标准值。然后调整修改超过标准值的泄漏孔,直至达到合格标准。



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